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科研成果

一种基于光谱浊度原位测量非均质纳米颗粒粒径及其包覆层厚度的方法

专利名称:

一种基于光谱浊度原位测量非均质纳米颗粒粒径及其包覆层厚度的方法

英文名称:

专利类别:

发明

申请号:

CN201710037953.9

申请日期:

2017-01-19

授权日期:

2020-03-13

专利号:

ZL201710037953.9

第一发明人:

陈岚

其它发明人:

葛广路; 袁丽

国外申请日期:

国外申请方式:

专利授权日期:

2020-03-13

缴费情况:

实施情况:

专利证书号:

专利摘要:

其它备注: