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科研成果

高质量超薄六方NiPS3纳米片及其大面积制备方法

专利名称:

高质量超薄六方NiPS3纳米片及其大面积制备方法

英文名称:

专利类别:

发明

申请号:

CN201710427138.3

申请日期:

2017-06-08

授权日期:

2019-01-25

专利号:

ZL201710427138.3

第一发明人:

何军

其它发明人:

王枫梅

国外申请日期:

国外申请方式:

专利授权日期:

2019-01-25

缴费情况:

实施情况:

专利证书号:

专利摘要:

其它备注: